難道發展芯片，就一定要光刻機嗎？中國可以用其它技術取代嗎？

    最近，美國收緊了出口管制，臺積電不再接受華為新的訂單，中芯國際雖然能夠生產14nm工藝的芯片，突破了N+1、N+2制程工藝，然而中芯國際使用的光刻機仍然來自于荷蘭ASML，含有“美國技術”，是否受到管制條款制約，還是個問題。那么，我國發展芯片能夠繞過光刻機嗎？

    什么是光刻機？    光刻技術與照相技術差不多，照相機是將鏡頭里的圖像印到底片上，而光刻機是將電路圖“刻到”硅片上。在光刻工藝中，將涂滿光敏膠的硅片作為“底片”，電路圖經過光刻機，縮微投影到“底片”上，制作芯片的過程，就是重復幾十遍這樣的過程。最終，指甲殼大小的芯片上集成了上百億個晶體管。

    目前，光刻機的龍頭企業是荷蘭的ASML，幾乎占領了100%的高端光刻機市場，最先進的EUV光刻機只有荷蘭ASML能夠生產。造價高到1.5億美金的EUV光刻機，集成了全球最先進的技術，來自美國的光源和計量設備，來自德國的鏡頭的超精密設備，來自法國的閥件，來自瑞典的軸承等等，可以說集人類智慧于大成。

    早在2018年，我國的中芯國際從荷蘭ASML那里預訂了一臺EUV光刻機，然而受到美國的影響，至今未收到這臺光刻機。中芯國際雖然突破了N+1、N+2工藝，然而后續的5nm、3nm工藝仍然離不來EUV光刻機，形勢依然很嚴峻。

    我國的光刻機    我國生產光刻機的企業是上海微電子，成立于2002年，由于起步較晚，因此在光刻機領域與荷蘭AMSL仍然有很大的差距。上海微電子能夠量產的光刻機是90nm制程，而荷蘭AMSL最先進的EUV光刻機可以生產5nm工藝制程的芯片，根據科學家的說法“至少有20年的差距”。最新消息，上海微已經突破了28nm工藝的光刻機，大大降低了與荷蘭ASML的差距，希望能夠盡快量產。

    總之，光刻機是半導體行業最重要的設備之一，是“沙子變芯片”最重要的設備。離開光刻機，玩不轉芯片，離開高端光刻機，玩不轉高端芯片。目前，還沒有替代設備能夠代替光刻機。

如果覺得對你有幫助，可以多多點贊哦，也可以隨手點個關注哦，謝謝。